AMR (Automatisk förstoringsavläsning), EDOF (Extra stort skärpedjup), EDR (Extra stort exponeringsomfång), FLC (Flexibel ljuskontroll)
AMR (automatisk forstørrelsesaflæsning) og EDOF (ekstra stort skærpedybde) sikrer præcis og pålidelig billedanalyse i industrielle målerum og kvalitetskontrolmiljøer – selv på komplekse eller ujævne overflader. EDR (ekstra stort eksponeringsomfang) og FLC (fleksibel lysstyring) optimerer billedkvaliteten under varierende lysforhold, hvilket øger nøjagtigheden i automatiserede måleopgaver. Teknologierne er særligt værdifulde inden for præcisionsmetrologikontrol, halvlederproduktion, medicinsk udstyr og avanceret maskinbearbejdning.